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桌面型小型離子濺射儀操作注意事項(xiàng)

發(fā)布時(shí)間: 2023-02-20  點(diǎn)擊次數(shù): 667次
  桌面型小型離子濺射儀分為低真空離子濺射和高真空離子濺射,根據(jù)原理又分為高電壓直流、低電壓磁控和離子束三種原理。
 
  桌面型小型離子濺射儀工作時(shí),接通高壓,陰極發(fā)射電子,電子能量增加到1-3kev,轟擊低真空中(3-10pA)的氣體,使其電離,激發(fā)出的電子在電場中被加速,繼續(xù)轟擊氣體,產(chǎn)生聯(lián)級(jí)電離,形成等離子體。
 
  離子以1-3kev的能量轟擊陰極靶,當(dāng)其能量高于靶材原子的結(jié)合能時(shí),靶材原子或者原子簇,脫離靶材,又經(jīng)過與等離子體中的殘余氣體碰撞,因此方向各異,當(dāng)落在樣品表面時(shí),可以在粗糙的樣品表面形成厚度均一的金屬薄膜,而且與樣品的結(jié)合強(qiáng)度高。
 
  如果工作室中的氣體持續(xù)流動(dòng),保持恒定壓力,這時(shí)的離子流保持恒定。高壓的功率決定了大離子流,一般有大離子流限制,用于保護(hù)高壓電源。
 
  桌面型小型離子濺射儀操作注意事項(xiàng):
 
  1、一般工作距離可調(diào),距離越近,濺射速度越快,但熱損傷會(huì)增加。
 
  2、離子流的大小通過控制真空壓力實(shí)現(xiàn),真空度越低,I越大,濺射速度越快,原子結(jié)晶晶粒越粗,電子轟擊樣品(陽極)產(chǎn)生的熱量越高;真空度越高,I越小,濺射速度越慢,原子結(jié)晶晶粒越細(xì)小,電子轟擊樣品產(chǎn)生的熱量小。
 
  3、加速電壓為固定,也有可調(diào)的,加速電壓越高,對(duì)樣品熱損傷越大。一般使用金屬靶材的正比區(qū)域。
 
  4、有些熱敏樣品,需要對(duì)樣品區(qū)進(jìn)行冷卻,水冷或者帕爾貼冷卻;也可以采用磁控裝置,像電磁透鏡一樣把電子偏離樣品。經(jīng)過這樣的改造,當(dāng)然會(huì)增加很高的成本??梢栽谑灡砻鏋R射一層金屬,而沒有任何損傷。
 
  5、真空中的雜質(zhì)越多,鍍膜質(zhì)量越差。一般黃金比較穩(wěn)定,可以采用空氣作為等離子氣源,而其他很多靶材則需要惰性氣體為好。

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